更正-先進芯片製造設備抵達紐約州創新中心

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07/21
更正-先進芯片製造設備抵達紐約州創新中心

將第三段中NY Creates的戴夫·安德森的頭銜從「總監」更正為「首席執行官」

Max A. Cherney

路透舊金山7月21日 - 紐約州州長辦公室表示,ASML ASML.AS 下一代芯片製造設備的首批組件已於周二運抵紐約州奧爾巴尼納米科技園區。

該納米技術園區將利用該設備,針對未來芯片設計與製造的新形式開展研發工作。

據NY Creates首席執行官安德森(Dave Anderson)介紹,該納米技術園區是北美唯一一家此類設施,其規模和重點與位於比利時的歐洲Imec研究所相似。

「這對我們未來的工作範圍以及美國本土的研發工作而言,確實具有變革性意義;實際上,我們正處於下一代技術發展的核心地帶,」安德森表示。

NY Creates負責管理該設施,並已與IBM IBM.N、存儲器製造商美光 MU.O 以及日本芯片設備製造商東京電子 8035.T 建立了合作伙伴關係。

ASML的下一代高數值孔徑(High NA)極紫外(EUV)光刻機將電路圖案刻印在硅片上,每台造價約4億美元。

隨着芯片製造商不斷縮小構成芯片的原子級特徵尺寸,這些設備被認為是未來生產先進處理器所不可或缺的。

周二運抵的部件構成了該設備的機身主體,未來幾周內,隨着設備在工廠內進行組裝,其餘部件也將陸續交付。安德森預計該設備將在年底前全面投入運行。

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